株式会社フジミインコーポレーテッド

×早川和彦デザイン事務所

MATERIAL

研磨材・研磨技術

Polishing Materials, Polishing Technologies

シリコンウェハーに代表される半導体基板の鏡面研磨、半導体チップの多層配線に必要なCMP（化学的機械的平坦化）、コンピュータ用ハードディスクの研磨など精度が求められる先端産業に欠かせぬものとなっている高精度研磨が可能な研磨剤。
最近では、LED・ディスプレイ・モバイル用途などで用いられる金属・セラミック、樹脂などの多種多様な材質、また様々な形状に適した研磨材や加工プロセスの開発・提供も積極的に取り組んでいる。

CORROSION

従来の研磨加工の価値は、対象物をどれだけ曇りなく磨き切るかということにあった。CORROSION（腐食・侵食）は、光沢と相反するザラつきやサビといったノイズを溶け込ませることで、研磨加工の新たな価値を探るという発想から生まれた。腐食させたアルミに、アルマイト加工を施してから研磨する手法を用いている。アンチテーゼ的なテクスチャーを奥行きの中で共存させ、反射の中に生まれる不完全の美を表現した。

DESIGNER

早川和彦デザイン事務所

KAZUHIKO HAYAKAWA DESIGN

1984年岐阜県高山市生まれ。多摩美術大学プロダクトデザイン学科卒業。
2014年より独立し、早川和彦デザイン事務所を設立。2016年よりCEKAIに所属。
物事の前後にある環境・状況等様々な文脈から関係性を導きだし、それぞれに適した手法や表現方法で、プロダクトの企画・デザインを中心に、ブランディング、パッケージ、インテリア、空間など幅広い提案を行っている。
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